ก้อนไนโอเบียมสถานะอบอ่อน-คืออะไร
สำหรับลูกบาศก์ไนโอเบียม-สถานะที่ผ่านการอบอ่อนแล้ว หลังจากการแปรรูปและการตัดแบบเย็น ลูกบาศก์ไนโอเบียมจะคงความเค้นภายในของการตัดไว้จำนวนมาก การเคลื่อนตัวของโครงตาข่าย ไฮโดรเจน-สิ่งเจือปนในการดูดซับออกซิเจน ฯลฯ
เพื่อแก้ไขปัญหานี้และขจัดปัญหาเหล่านี้ ลูกบาศก์ไนโอเบียมจะต้องผ่านกระบวนการอบอ่อน- ลูกบาศก์ไนโอเบียมสถานะอบอ่อน- หมายถึงลูกบาศก์ที่เสร็จแล้วในบรรยากาศไฮโดรเจนที่มีความบริสุทธิ์สูง/สุญญากาศสูง- ซึ่งผ่านการอบชุบด้วยอุณหภูมิที่สูง 800–1250 องศา- การควบคุมอุณหภูมิที่ช้า- การทำความเย็นที่ควบคุม เสร็จสิ้นขั้นตอนทั้งสี่ของการบรรเทาความเครียด การตกผลึกซ้ำ การลดก๊าซในสุญญากาศ และการลดพื้นผิวและการกำจัดออกไซด์ จากนั้นจึงกลายเป็นวัสดุที่ระเหยในสถานะอ่อน- เป็นเกรดที่กำหนดสำหรับ OLED, ออพติก และการเคลือบการระเหยของเซมิคอนดักเตอร์ระดับไฮเอนด์- ซึ่งแตกต่างจากลูกบาศก์ไนโอเบียมที่มีสถานะแข็งตัว-เย็นที่ยังไม่อบอ่อน-
กระบวนการอบอ่อนมาตรฐาน (ก้อนอบอ่อนเกรดเคลือบสูญญากาศ)
1. บรรยากาศ: การหลอมแบบสุญญากาศ (ดีกว่า 1 × 10⁻³ Pa) หรือการหลอมไฮโดรเจนที่มีความบริสุทธิ์สูง- แยกออกจากอากาศเพื่อป้องกันการดูดซึมออกซิเจนและการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูง
2. ช่วงอุณหภูมิ
4. การหลอมบรรเทาความเครียด: 800–900 องศา ขจัดความเครียดในการตัด กำจัดไฮโดรเจนและไอน้ำที่ดูดซับบนพื้นผิว
◦ การหลอมการตกผลึกใหม่โดยสมบูรณ์: 1,050–1300 องศา ปรับแต่งขนาดเกรน ปล่อยสิ่งเจือปนขัดแตะออกอย่างสมบูรณ์
3. กระบวนการ: การคงอุณหภูมิสูง- → การควบคุมอุณหภูมิแบบเกรเดียนต์ที่ควบคุมอุณหภูมิให้เย็นลงอย่างช้าๆ → การทำความเย็นให้เหลืออุณหภูมิห้องในเตาเผา → การขจัดไขมันและการทำความสะอาด → บรรจุภัณฑ์ปิดผนึกสูญญากาศ
ข้อดีของแกนลูกบาศก์ไนโอเบียมอบอ่อน (แก้ไขจุดปวดของการเคลือบสูญญากาศ)
1. กำจัดก๊าซภายในออกโดยสิ้นเชิงด้วยปริมาณการปล่อยก๊าซในโพรงที่ต่ำมาก ทำให้มั่นใจได้ถึงความเสถียรของสุญญากาศสูง ในระหว่างกระบวนการเย็นของไนโอเบียม โครงตาข่ายภายในจะคง H₂, N₂ และติดตามปริมาณไอน้ำไว้ ในระหว่างการยิงลำแสงอิเล็กตรอนที่อุณหภูมิสูง- จะเกิดการปล่อยก๊าซอย่างต่อเนื่อง ทำให้เกิดความผันผวนในระดับสุญญากาศของโพรง และปรากฏรูเข็ม หมอกควัน และความแตกต่างของสีบนฟิล์ม
การไล่ก๊าซแบบลึกเสร็จสิ้นภายใต้-การอบอ่อนที่อุณหภูมิสูง: ไฮโดรเจนจำนวนมาก น้ำที่ถูกดูดซับ และก๊าซเจือปนที่คั่นระหว่างหน้าจะถูกปล่อยออกมา ซึ่งช่วยลดการปล่อยก๊าซสูงสุดของกระบวนการระเหยแบบสุญญากาศลงได้อย่างมาก โดยรักษาสุญญากาศในโพรงให้คงที่ และเพิ่มผลผลิตของฟิล์มกรองแสงหลาย- และชั้นกั้นเซมิคอนดักเตอร์ได้อย่างมีนัยสำคัญ
2. ขจัดความเค้นตกค้างในการตัด ไม่มีการแตกร้าวหรือการกระเด็นระหว่างการระเหยที่อุณหภูมิสูง- ไนโอเบียมชุบแข็งเย็นที่ยังไม่อบอ่อน-มีความเข้มข้นภายใน ในระหว่างการให้ความร้อนที่อุณหภูมิสูง-เฉพาะที่ด้วยลำแสงอิเล็กตรอน ความเครียดจะถูกปล่อยออกมา ส่งผลให้เกิดการแตกร้าวของอนุภาคและเศษกระเด็น ทำให้เกิดการปนเปื้อนในถ้วยใส่ตัวอย่างและซับสเตรต ทำให้เกิดการเปลี่ยนแปลงความหนาของฟิล์มกะทันหัน และเร่งการสูญเสียวัสดุเป้าหมาย หลังจากการหลอม โครงตาข่ายจะกำหนดค่าใหม่และความเค้นจะถูกปล่อยออกมาอย่างสมบูรณ์ ทำให้วัสดุมีความนุ่มและเหนียวมากขึ้น ภายใต้การระดมยิงลำแสงอิเล็กตรอนที่อุณหภูมิสูง-ในระยะยาว วัสดุทั้งหมดจะได้รับความร้อนสม่ำเสมอ ไม่มีการแตกร้าวหรือการกระจายตัว และอัตราการระเหยมีความเสถียรเชิงเส้น โดยมีความสามารถในการทำซ้ำและความสม่ำเสมอของความหนาของฟิล์ม เหมาะสำหรับสายการผลิตแผงต่อเนื่อง
3. ขจัดชั้นผิวออกไซด์ออก ลดสิ่งสกปรกออกซิเจนในฟิล์ม ไนโอเบียมที่อุณหภูมิห้องจะก่อให้เกิดชั้น Nb₂O₅ ออกไซด์ได้อย่างง่ายดาย การระเหยของวัตถุดิบที่ไม่มีการอบอ่อนทำให้เกิดการระเหยของออกไซด์พร้อมกัน ส่งผลให้ปริมาณออกซิเจนมากเกินไปในฟิล์มไนโอเบียมโลหะและค่าการนำไฟฟ้าลดลง เมื่อเตรียมฟิล์มออพติคัล Nb₂O₅ จะมีความผันผวนของดัชนีการหักเหของแสงและการเปลี่ยนแปลงสเปกตรัม การหลอมไฮโดรเจนสามารถคืนชั้นพื้นผิวออกไซด์ได้ การหลอมด้วยสุญญากาศจะผลักดันออกซิเจนบนพื้นผิวให้กระจายไปยังสารตั้งต้นอย่างสม่ำเสมอ ส่งผลให้พื้นผิวสะอาดโดยไม่มีชั้นออกไซด์อิสระ ควบคุมปริมาณสิ่งเจือปนในฟิล์มระเหยได้ ความสม่ำเสมอของแบทช์ที่แข็งแกร่งของพารามิเตอร์ทางแสงและพารามิเตอร์ที่เป็นสื่อกระแสไฟฟ้า และความเหมาะสมสำหรับการเคลือบด้วยแสงที่มีความแม่นยำสูง-และการสะสมของฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์
4. การปรับแต่งเกรนสม่ำเสมอ การนำความร้อนสม่ำเสมอ อัตราการระเหยที่เสถียรและควบคุมได้ เม็ดไนโอเบียมแปรรูปเย็น-มีการบิดเบี้ยวและมีขนาดไม่เท่ากัน โดยมีความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญในการนำความร้อนเฉพาะที่ ในระหว่างการระดมยิงด้วยลำอิเล็กตรอน จะเกิดการหลอมละลายมากเกินไปหรือการระเหยที่ไม่เพียงพอ หลังจากการหลอม การตกผลึกซ้ำจะเสร็จสมบูรณ์ โดยสร้างโครงสร้างเม็ดละเอียด-ที่มีความละเอียดเท่ากันโดยมีค่าการนำความร้อนที่สมดุลในอนุภาคลูกบาศก์ และวัสดุทั้งชุดในเบ้าหลอมจะระเหยไปพร้อมๆ กัน ทำให้ไม่จำเป็นต้องปรับกำลังลำแสงอิเล็กตรอนบ่อยครั้ง ลดค่าใช้จ่ายในการแก้ไขข้อบกพร่องของกระบวนการ และเหมาะสำหรับ-การเคลือบด้วยแสงที่มีความแม่นยำสูงและการสะสมฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์
5. ทนต่อการคืบของอุณหภูมิสูง- ไม่ยุบตัวหรือเสียรูปในระหว่างการระเหยในระยะยาว- ไนโอเบียมที่ผ่านการอบอ่อนได้ปรับปรุงความเป็นพลาสติกและมีเสถียรภาพทางโครงสร้างที่อุณหภูมิสูง-มากขึ้น ถ้วยใส่ตัวอย่างจะไม่อ่อนตัวและยุบตัวหรือก่อตัวเป็นก้อนหลังจาก-คงสภาพที่อุณหภูมิสูง-ในระยะยาว และความหนาแน่นของการบรรจุยังคงไม่เปลี่ยนแปลง ช่วยลดความถี่ของการหยุดทำงานของเครื่องจักรในการเติมวัสดุ และปรับปรุงอัตราการใช้สายการผลิต เมื่อเทียบกับไนโอเบียมแข็ง อายุการระเหยอย่างต่อเนื่องจะเพิ่มขึ้นมากกว่า 30%
เมื่อคุณมีผลิตภัณฑ์ไนโอเบียมอบอ่อนข้างต้นที่เกี่ยวข้องกับแท่ง แผ่น ลูกบาศก์ หรือแบบดึงที่มีความต้องการพิเศษ โปรดติดต่อเรา
ที่อยู่ของเรา
เมืองเป่าจี มณฑลส่านซี ประเทศจีน
หมายเลขโทรศัพท์
0086-18291730106
อีเมล-
